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镀铜工艺主要包括以下几种:
化学镀铜:通过化学反应在基材表面沉积铜层。例如在印制电路板制造中,常使用化学镀铜来形成导电通路。
特点:不需要外加电流,沉积速度相对较慢,但镀层均匀性较好。
电镀铜:将待镀件作为阴极,铜作为阳极,在直流电的作用下使铜离子在阴极表面还原成铜沉积。
例如在五金件的表面处理中,电镀铜可以增强其耐腐蚀性和美观度。
特点:沉积速度较快,镀层厚度易于控制。
电刷镀铜:采用专用的直流电源设备,电源的正极接镀笔,作为刷镀时的阳极;电源的负极接工件,作为刷镀时的阴极。镀笔通常采用高纯度细石墨块作阳极材料,石墨块外面包裹棉花和耐磨的涤棉套。
特点:设备轻便、工艺灵活,可在现场不解体修理大型设备。
不同的镀铜工艺在应用场景、镀层性能和成本等方面各有特点,需要根据具体的需求来选择合适的工艺。
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